液晶や有機ELなどのフラットパネルディスプレイに使用される、光学機能性フィルム、カラーレジスト、半導体製造工程で用いられるフォトレジスト、化合物半導体材料などの研究開発を行っています。
顧客のニーズに対応した高機能・高付加価値製品をタイムリーに提供するため、各製品に使用される材料の開発にも注力するほか、これまでに培った化学品技術を基盤とし、時代を先取りした次世代技術・材料開発にも精力的に取り組んでいます。

偏光フィルムは、液晶や有機ELなどのフラットパネルディスプレイに不可欠な部材です。高輝度、高コントラスト、高視野角などディスプレイの性能向上に寄与しています。次世代のフレキシブルディスプレイへの適用が可能な塗布型の偏光板材料の開発にも取り組んでいます。

次世代ディスプレイとして注目されるフレキシブルディスプレイでは、すべての部材が曲げられるようになる必要があります。ディスプレイに必須のカバーガラスもその一つです。代替材料として、軽量で外部衝撃に強く、何度でも折り曲げられる前面フィルムを開発。フレキシブルディスプレイの実現に貢献しています。

指で触れたことを電気信号として検知するタッチセンサーパネルは、位置の正確性や、感度の高さが要求される高度なセンサーデバイスです。ガラス製タッチセンサーから、曲面ディスプレイに対応したフィルム製のものまで、ディスプレイデバイスのさらなる進化を支えるべく、これからも研究開発を進めていきます。

カラーレジストは、液晶や有機ELなどのフラットパネルディスプレイの色特性をつかさどるカラーフィルターの重要な材料です。当社は、有機合成技術と染料事業で培った色材技術を融合させ、従来品に比べ飛躍的な高輝度・高色再現性を実現した染料系カラーレジストを世界に先駆けて開発しました。ディスプレイの色特性の追求に応えるため、これからも研究開発を進めていきます。

半導体の高集積化を担う材料としてのフォトレジストの研究開発、工業化を進めています。i線、KrFエキシマ、ArFエキシマ、液浸ArFエキシマのプロセスに対応したフォトレジストで、半導体デバイスの進化に貢献するとともに、次世代の最先端プロセス製造に用いられるEUVレジストの研究開発も行っています。

GaAs（ガリウムヒ素）、GaN（窒化ガリウム）をはじめとする化合物半導体材料は、シリコン半導体では得られない優れた特性により用途を拡大し続けています。パワーデバイス用途や、有害元素の不使用などを通して、省エネや環境負荷低減を実現するため、新規基板およびエピウエハの開発を進めています。

当社のセパレータは高容量化が進む電池の安全性向上に寄与するため、ポリオレフィン基材に熱安定性の高いアラミド樹脂で形成した耐熱層を組み合わせていることが特徴です。急成長するリチウムイオン二次電池の市場に対応すべく生産性向上、顧客ニーズにあった商品開発を進めています。

当社のスーパーエンジニアリングプラスチックスは電気・電子部品、分離膜材料、航空機用炭素繊維複合材料など様々な用途で使用されています。各種の用途に応じた改良や、デジタルトランスフォーメーション、省エネルギー・省資源など時代の要請に応える新たな高機能品の創出に取り組んでいます。